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公司集热处理加热设备的研发，设计，制造，销售，调试安装于一体，为客户提供整套成熟的热处理方案。
CVD管式炉
一款通过CE认证的CVD高温真空管式炉，单温区，台式，非开合。广泛应用于真空或气氛环境下的热处理、CVD实验、以及半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料新工艺领域。
高纯氧化铝陶瓷刚玉管带密封快开法兰,硅钼棒加热
配备单通道气体流量控制装置,流速可调
真空系统配备真空泵,管路及阀门,真空度可达50Pa
开合式单温区CVD旋转管式炉。高纯多晶氧化铝纤维炉膛，HRE合金电阻丝加热。适用于多种粉末或颗粒物如陶瓷，碳粉，石墨烯，石英砂等新型材料在真空或气氛保护下进行退火、扩散和烧结等热处理。
大肚石英管带不锈钢密封法兰，炉管转速可调
管中内置3个搅拌叶片，在加热过程中搅拌物料
配备单通道供气系统和真空系统
立式分体式氢气管式炉，配备气体置换PLC自动控制系统，双通道进出气口，氧化铝管，不锈钢真空密封法兰，压力表及针阀，流量计，止回阀，氢气探测，尾气燃烧装置等。
单区，立式分体式，独立控制柜，制氢管式炉
氧化铝陶瓷炉管带不锈钢密封法兰，碳棒加热
PLC控制多通道供气系统和尾气点火装置
三温区CVD管式炉,优质新工艺硅钼棒加热,温度可达1700°C。配备真空泵和气体混合装置,宇电PID温度控制系统。主要用于真空和大气保护烧结、真空薄膜涂布、CVD实验、稀土制备、晶体退火等和金属热处理的物理元件测试。
氧化铝陶瓷炉管带不锈钢水冷法兰，硅钼棒加热
SS304水冷密封法兰，带针阀和仪表
配备真空泵，气体混合装置，多通道供气系统，水冷系统
